当集成电路制程向3nm及以下纵深演进，洁净室已不再是单纯的“无尘空间”，而是决定良率与可靠性的核心工艺环境。气态分子污染物（AMC）的管控能力，正成为衡量一家洁净方案供应商技术纵深的关键标尺。
2026年9月9日—11日，深圳IICIE国际集成电路创新博览会在宝安国际会展中心隆重举行。中建南方环境股份有限公司（展位号：15A30）以“半导体洁净室及AMC污染管控整体解决方案”亮相，向产业链上下游展示了从化学吸附到末端过滤的完整技术能力。
以系统思维，回应先进制程的洁净命题
本次展出的核心方案，是一套自上而下、层层设防的模块化AMC管控系统。该系统采用高洁净度夹炭布为核心吸附材料，专门设计安装于HEPA/ULPA过滤器上游、洁净室天花板FFU上方或机台内部，依据不同工艺场景灵活组合，实现对多种分子污染物的精准去除。
气流自上而下，五重屏障依次展开：
第一重｜MC化学过滤器
作为气流接触的首道防线，专攻挥发性有机化合物（VOC） ，精准对应光刻胶涂布、清洗等工序的有机废气管控。
第二重｜MB化学过滤器
紧随其后，专攻碱性气体，有效应对碱性显影液挥发物（如氨气）带来的污染风险。
第三重｜MA化学过滤器
专攻酸性气体，针对蚀刻、清洗等工序产生的酸性废气，提供高效化学吸附保障。
第四重｜超高效FFU风机过滤单元
作为系统动力核心，提供稳定均匀的气流组织，确保高洁净等级下的高效节能运行。
第五重｜超低阻高效过滤器
作为末端保障，以超低阻力实现高效过滤，在保障洁净度的同时大幅降低系统能耗，契合半导体厂节能降耗的刚性需求。
核心性能： 适用于半导体或面板厂等去除10ppb以上浓度的分子污染物，有效提升晶圆良率与生产环境稳定性。
以专业对话，链接产业链真实需求
三天展期，15A30展位迎来了来自晶圆制造、封装测试、面板显示等领域的数百位专业观众。中建南方环境团队与来访客户围绕洁净室系统设计、AMC控制策略、过滤器选型与运维、节能降耗等核心议题展开深度交流。
现场反馈中，客户对这套系统的分层组合逻辑与超低阻高效过滤器的节能潜力表现出高度关注——这恰恰印证了一个趋势：半导体洁净方案正从“单一产品采购”走向“系统能力交付”，从“达标即可”走向“精益运营”。
以长期主义，锚定洁净技术的未来坐标
面对集成电路产业对洁净环境日益严苛的要求，中建南方环境的路径清晰而坚定：
向更深的技术纵深突破。 从10ppb向PPT级迈进，为先进制程提供更长久、更稳定的防护屏障。向更智能的系统能力演进。 融合在线监测与智能算法，推动AMC管控从“定期更换”走向“按需运维”，让洁净系统具备感知、判断与响应的能力。
向更绿色的运行范式转型。 依托超低阻高效过滤器与超高效FFU的组合优势，持续优化系统风阻与能耗表现，助力半导体厂在“双碳”目标下实现洁净与节能的平衡。
向更自主的产业生态共建。 携手产业链上下游伙伴，推动国产化替代进程，参与行业标准建设，共同构建安全、自主、可控的半导体洁净生态。
洁净，是半导体制造的底线，也是中建南方环境的长期主义。
感谢每一位莅临15A30展位的朋友。未来，我们将继续以技术为锚、以品质为帆，在AMC污染管控与洁净过滤领域深耕不辍，护航“中国芯”，共赴洁净新程。
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